艾司摩爾執行長：陸買不到EUV 晶片技術將落後15年

艾司摩尔执行长富凯表示，美国对中国大陆禁止出口极紫外光（EUV）曝光设备，大陆晶片技术将落后西方。路透

荷兰半导体曝光设备大厂艾司摩尔（ASML）执行长富凯（Christophe Fouquet）日前接受媒体专访时表示，由于美国对中国大陆禁止出口极紫外光（EUV）曝光设备，导致大陆无法获得尖端曝光机，与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，大陆晶片技术将落后西方10-15年。

荷兰《新鹿特丹报》（NRC）报导，富凯指出，禁令确实会产生影响，毕竟ASML是一家私营企业。

ASML CEO富凯谈大陆晶片产业

这是自2024年4月富凯担任ASML执行长以来，首次谈及大陆与海外半导体产业的差距。先前富凯还表示，世界需要大陆生产的传统晶片，将填补欧洲供需缺口，尤其大陆厂商不可能造出先进曝光系统。

今年10月16日，ASML发布2024财年第3季财报显示，销售额为75亿欧元，高于预期目标，主要得益于深紫外（DUV）曝光系统销售和装机售后服务增加，该季度毛利率为50.8%，低于上一季度，净利润21亿欧元。其中大陆仍是ASML最大市场，占第3季销售额47%。

富凯表示，ASML拥有令人难以置信的市场地位，但也为此付出代价：关注和外部压力。这一点将继续存在，大陆、美国都将ASML视为拼图中的关键部分。

富凯强调，「如果剩下几个大公司，对创新来说会更好。我毫不怀疑三星将会复苏。竞争对手也希望看到英特尔再次表现出色。但如果犯的错误太多，就很难起来。英特尔的复苏对美国具有重要战略意义。」

ASML在全球晶片供应链中占据重要地位，世界上几乎90%的晶片都是由ASML曝光系统生产。在半导体制造行业，深紫外（DUV）曝光机可用于制造7奈米及以上制程的晶片，涵盖大部分数位晶片和几乎所有的类比晶片。随着先进制程向5奈米及以下进化，EUV成为未来曝光技术和先进制程核心，主要用于7奈米及以下先进晶片制造制程，荷兰ASML是唯一的供应商。

自1988年交付首台步进式（stepper）曝光机以来，今年是ASML深耕大陆市场的第36年。2024年1月2日，ASML发布声明称，荷兰政府部分撤销先前颁发的NXT：2050i和NXT：2100i曝光机在2023年发货的出口许可证，这将对ASML在大陆的个别客户产生影响。