傳三星減少引進高數值孔徑EUV 與ASML合作陷停滯

三星上月初告知ASML，计划减少引进下代高数值孔径极紫外光微影设备（High NA EUV）。图／路透

韩媒BusienssKorea报导，三星电子去年12月与半导体制造设备龙头艾司摩尔（ASML）签署备忘录，要打造极紫外光（EUV）共同研究中心。不料6个月后，这个合作计划就大幅缩水。

三星上月初告知ASML，计划减少引进下一代的高数值孔径极紫外光微影设备（High NA EUV）。三星在双方高层会议时，传达此一决定，预料很快会开始调整相关合约。

三星原本规划，未来10年要添购超过3台的下代EUV，包括EXE:5200、EXE:5400、EXE:5600。但如今只会引进EXE:5200，并将重新考虑后续机种的采用。副会长全永铉（Jun Young-hyun）主掌装置解决方案部门（DS）后，重新检讨了现行项目和投资，做出此一决策。

业内人士说，三星决定减少引进EUV后，在华城打造研究中心的相关程序完全喊停，共同研究中心会迁往其他地方，或是取消，将在未来讨论决定。

然而，三星高层表示，引进High NA EUV的计划并未改变，研发中心将在最适合地点建造。

三星与ASML合作，被认为是取得先进EUV设备的策略。全球只有ASML一家公司能生产尖端EUV机台。如果双方减少合作，预料将影响南韩本土的半导体生态体系与有关产业。