韩国SK海力士前中国员工窃密获判18个月监禁 罚款44万元

三星电子、SK海力士等韩国晶片公司加强员工安全检查等预防措施，但仍持续断面临技术泄露到中国的风险。（图／美联社）

随着半导体技术与国家产业实力关系愈来愈密切，涉及国家重点产业资讯的泄漏被视为严重犯罪行为。近期韩国知名半导体SK海力士公司一名前中国大陆员工涉嫌窃取核心技术机密，遭韩国法院判定违法，获处一年半监禁并科2000 万韩元（约合台币44万元）罚款。

据《芯智讯》报导，韩国水原地方法院骊州分院于周四认定SK海力士公司前中国员工违反《工业技术泄露防止及保护法》，判处监禁与罚款。这位36岁的女性为中国公民，2013年开始在 SK 海力士负责分析缺陷半导体设计的部门工作，随后调被至SK海力士中国上海分公司，并且在 2020 年至 2022 年期间负责公司间交易的咨询工作。

报导指出，该名女员工在2022年6月被安排回到韩国工作后，于同月跳槽至中国某知名科技公司，以获得更高的年薪。但是她在离开SK海力士之前，被怀疑违反规定列印了约4000页有关半导体制造流程解决方案的技术资料，其列印行为也被详细记录下来。SK海力士一位发言人表示，公司意识到这名前员工列印这些资讯，就立即向调查机构报告，目前正在配合对嫌疑人的调查，并监督调查情况。

韩国警方在收到 SK 海力士报案后展开调查，并在2024年4月该员工再次入境时在机场予以逮捕。法院审理后指出，被告离开SK海力士公司之前，在保安松懈的中国上海分公司将技术4千多页技术资料列印成文件，并疑似分批带回家中。但被告坚称列印资料使用后已立即粉碎，目的是为了研究半导体和接管业务，无意泄露技术。但此一辩辞遭法院驳回，认定她是为转投新雇主而借机窃取资讯。

报导说，三星电子、SK海力士等韩国晶片公司已加强员工安全检查等预防措施，但仍不断面临技术泄露到中国的风险，韩国研究机构认为这可能造成高达数兆韩元的经济损失。今年4月，三星也面临类似案件。

此次泄露的资讯涉及DRAM制造工艺中使用的原子层沉积（ALD）设备，中国尚未能够开发这种设备。

报导表示，韩国的海外技术泄密案件数量持续增加。据员警厅统计，去年2月至10月，相关案件审理数量达21起，比前一年增加了75%。这是自2013年以来的最高值。