韓媒：ASML明年生產十台2奈米EUV設備 英特爾傳搶下6台

ASML的组装工程师正投入EUV设备的组装作业。路透

南韩科技媒体SamMobile报导，南韩三星电子执行董事长李在镕上周访荷兰时，与半导体制造设备大厂艾司摩尔（ASML）签订合资建立研发设施的历史性协议，将有助于三星进攻2奈米晶片的发展。报导同时指出，ASML计划明年生产10台能生产2奈米晶片的设备，而英特尔（Intel）据传已经抢下其中的六台。

SamMobile报导指出，ASML将在未来几个月内推出生产2奈米晶片的设备，最新的EUV微影设备，预计将让数值孔径（NA）从0.33提高至0.55，让光学系统的收光能力更强，将有助于晶片制造厂利用超精细图案化技术来生产2奈米晶片。

报导说，ASML计划明年生产十台这款设备，而英特尔据传已经买下其中的六台。ASML计划未来几年要改善产能，年产20台。

至于三星则计划在取得2奈米晶片制造设备后，将在2025年底开始生产2奈米晶片。然而，就像任何技术和策略计划一样，这类晶片的推出时程也可能延后，取决于市况和制造品质。

SamMobile的报导指出，李在镕从荷兰回到南韩后，表示他对三星与ASML签署的合资建立研发设施协议感到满意。三星上周和ASML签署以1兆韩元（7.55亿美元）在南韩投资建立半导体晶片研发设施的协议，未来将在该设施研发EUV技术。

三星电子领导装置解决部门的负责主管庆桂显强调，该公司的最新协议有助于取得下一代高数值孔径EUV微影设备。他说，「三星已经取得高数值孔径设备技术的优先权。（从这趟旅程）我相信我们创造了机会，能优化利用高数值孔径技术，长期有利于我们生产DRAM记忆体晶片和逻辑晶片」。

报导说，在即将设立、位于京畿道东滩的晶片研发设施，来自ASML和三星电子的工程师将合作改善EUV晶片制造技术。这项协议不是聚焦把2奈米晶片制造设备引入南韩，而是聚焦两家公司的合作关系，以便让三星能够更好地利用下一代的设备。