Jefferies：ASML估台積電今年將取得首台High-NA EUV

Jefferies分析师预计，台积电2028年量产A14制程晶片时，料将导入High-NA EUV技术。美联社

彭博资讯报导，Jefferies分析师说，艾司摩尔（ASML）预计台积电将在今年取得其首台高数值孔径（High-NA）测试系统，台积2028年量产A14制程晶片时，料将采用这项技术。

包含梅农在内的Jefferies分析师援引ASML财务长达森的说法表示，台积电是ASML-IMEC高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）实验室的积极参与者，「ASML预计台积电最终会使用High-NA EU，正密切与这个客户在这项技术上合作」。

这些分析师说，ASML仍维持该公司2025年营收可能在其财测区间上半的看法。

目前ASML面临的竞争，确切来说只有佳能（Canon）的i-line和KrF系统。中国的上海微电子，远未达到推出KrF或浸没式系统的地步，而上海微电子正在出货一些i-line系统，但「买这些系统的客户可以向ASML和佳能买的话，就比较倾向这么做」。