京东方申请阵列基板及其制备方法、显示装置专利，有利于在实现高分辨率的情况提升 TFT 的均匀性

金融界 2024 年 11 月 28 日消息，国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“阵列基板及其制备方法、显示装置”的专利，公开号 CN 119031760 A，申请日期为 2024 年 9 月。

专利摘要显示，本申请涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置，阵列基板包括：衬底，具有包括多个像素的显示区域；设置于衬底上的多条栅线和多条数据线，多条栅线和多条数据线交叉限定出多个像素各自所在的区域；每个像素包括：设置于衬底上的发光器件以及沿衬底的厚度方向上，开关薄膜晶体管和第一驱动薄膜晶体管堆叠设置于衬底上；其中，开关薄膜晶体管的第一栅极和栅线连接，第一源极与数据线连接，第一漏极与第一驱动薄膜晶体管的第二栅极连接；第一驱动薄膜晶体管的第二源极与发光器件连接，用于驱动发光器件。本申请提供的阵列基板，有利于在实现高分辨率的情况下提升 TFT 的均匀性，以及增加存储电容的面积，提升存储电容的容值均匀性，从而改善低灰阶画面下的 Mura 问题。

本文源自：金融界

作者：情报员