NVIDIA運算式微影平台 台積電採用

台积电。路透

辉达（NVIDIA）持续协助客户将加速运算导入到半导体生产中，该公司在 GTC 大会中宣布，台积电与新思科技（Synopsys）将突破性的辉达运算式微影平台投入生产。NVIDIA cuLitho 可将半导体制造中运算密集型工作负载加速40至60倍。

辉达指出，台积电与新思科技将使用该公司的运算式微影平台投入生产，以加速制造并突破下一代先进半导体晶片的物理极限。这两家公司已将 NVIDIA cuLitho 整合至其软体、制造流程与系统中，以加快晶片制造，并将在未来支持最新一代 Blackwell 架构 GPU 。

运算式微影是半导体制造过程中最需要运算资源的工作负载，每年在 CPU 上消耗数百亿小时。一组典型的光罩可能需要 3,000 万或更多小时的 CPU 运算时间，半导体代工厂因此需建立大型资料中心。透过加速运算，350 个 H100 系统现在可取代 40,000 个 CPU 系统，加快生产时间，同时降低成本、空间和功耗。

辉达创办人暨执行长黄仁勋表示，运算式微影是晶片制造的基石。该公司与台积电和新思科技合作，将 cuLitho 应用于加速运算和生成式AI，开拓半导体微缩的新领域。

辉达强调，其推出新的生成式 AI 演算法增强 cuLitho，用于 GPU 加速运算式微影的软体库与目前基于 CPU 的方法相比，显著改进半导体制造流程。

同时，台积电总裁魏哲家指出，该公司与辉达合作，将 GPU 加速运算整合到公司工作流程中，从而实现效能大幅的跃升、显著提高生产率、缩短周期时间以及降低功耗需求。台积电目前也正在将 cuLitho 投入到公司的生产。