台積電法說會／預期2奈米在頭兩年產品設計定案量 高於3、5奈米同期

台积电（2330）18日在法说会中，更新了先进制程的发展进度，预期该公司2奈米技术，在头两年的产品设计定案数量将高于3奈米和5奈米的同期表现。路透

台积电（2330）18日在法说会中，更新了先进制程的发展进度，预期该公司2奈米技术，在头两年的产品设计定案（tape outs）数量将高于3奈米和5奈米的同期表现。

台积电表示，N2制程技术提供全世代的效能和功耗优势，相较于N3E，在相同功耗下，速度增加10％至15％；在相同速度下，功耗降低25％至30％，同时晶片密度增加大于15％。

台积电指出，N2制程技术研发进展顺利，装置效能和良率皆按照计划甚或优于预期，将如期在2025年进入量产，其量产曲线预计与N3相似。

在持续强化的策略下，台积电也推出N2P制程技术，为N2家族的延伸。N2P在N2的基础上具备5％的效能增长，以及5％至10％的功耗优势。N2P将为智慧型手机和 HPC应用提供支持，并计划于2026年下半年量产。

台积电并将推出A16制程技术为下一代奈米片技术，并推出采用超级电轨（Super Power Rail，或称SPR）的独立解决方案。台积电提到，其SPR是一种创新的最佳晶圆背面供电网路解决方案，为业界首创，保留栅极密度与元件宽度的弹性。相较于N2P，A16在相同工作电压下，速度增快8％至10％；在相同速度下，功耗降低15％至20％；晶片密度则提升7％至10％。

台积电强调， A16是具有复杂讯号布线及密集供电网路的高效能运算（HPC）产品的最佳解决方案，计划于2026年下半年进入量产。