特思迪申请一种 Max 相 TiAlC 材料的抛光专利，简化抛光工艺

金融界 2024 年 12 月 20 日消息，国家知识产权局信息显示，北京特思迪半导体设备有限公司申请一项名为“一种 Max 相 TiAlC 材料的抛光方法及所制备的 Max 相 TiAlC 抛光材料”的专利，公开号 CN 119141332 A，申请日期为 2024 年 11 月。

专利摘要显示，本发明涉及MAX 相材料加工技术领域，具体涉及一种 Max 相 TiAlC 材料的抛光方法及所制备的 Max 相 TiAlC 抛光材料。本发明提供了一种 Max 相 TiAlC 材料的抛光方法，包括如下步骤：采用抛光垫和抛光液进行抛光，抛光液中磨料为金刚石，金刚石的质量为抛光液质量的 0.1wt%~5wt%，抛光液中金刚石的粒径为 30nm~250nm；抛光垫的硬度为邵氏硬度 A30~90 度；抛光垫的密度为 0.3~0.7g/cm2。本发明提供的 Max 相 TiAlC 材料的抛光方法，利用抛光垫代替固结磨粒的研磨盘加工，大大简化了工艺。

本文源自：金融界

作者：情报员