元六鸿远电子取得提高 MLCC 叠层错位精度识别结构专利，提高叠层错位精度

金融界 2024 年 11 月 12 日消息，国家知识产权局信息显示，北京元六鸿远电子科技股份有限公司取得一项名为“一种提高 MLCC 叠层错位精度的识别结构”的专利，授权公告号 CN 221977769 U，申请日期为 2023 年 12 月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种提高 MLCC 叠层错位精度的识别结构，属于电容器技术领域，其技术要点是：所述识别结构设置在电极膜片一侧，所述识别结构关于所述电极膜片对称设置，电极膜片设置在承载机构的一侧，承载机构用于带动所述电极膜片的识别结构移动，电极膜片另一侧设置有两台 CCD 相机，CCD 相机用于定位电极膜片两侧的识别结构；还应包括搬送机构和积层平台，所述搬送机构在所述承载机构和积层平台之间移动，搬送机构在所述承载机构上抓取电极膜片或陶瓷膜片，搬送机构在所述积层平台上堆叠电极膜片或陶瓷膜片，且搬送机构每次抓取电极膜片和堆叠电极膜片的位置固定不变，可以避免搬送机构移动精度造成的影响，从而提高叠层错位精度的优点。

本文源自：金融界

作者：情报员