《兴柜股》新应材预计下月中上柜 前3季营运已缔年度新猷

新应材2003年成立，以面板及半导体光学元件光阻材料起家，2018年转型投入半导体先进制程，聚焦开发良率关键的微影（Lithography）特化材料，目前着重半导体先进微影制程、半导体光学元件制程、显示器制程、Micro LED量子点材料等四大发展主轴。

新应材2024年前三季合并营收24.06亿元、年增35.57％，营业利益4.46亿元、年增达1.45倍，配合业外收益倍增助攻，使归属母公司税后净利5.24亿元、年增达1.22倍，每股盈余6.39元，均已提前改写年度新高。其中，半导体营收占比达78.5％、显示器占比21.5％。

新应材董事长詹文雄表示，公司2019年迄今投入半导体的资本支出及研发费用合计已逾40亿元，随着2023年先进黄光微影材料获晶圆代工客户采用、3奈米制程正式量产，配合高雄厂一期正式量产助攻，规模经济显现带动今年营运显著成长。

新应材指出，半导体特化材料开发及验证时间长，公司具4大关键竞争优势，一、从配方开发向上整合自建原料合成能力。二、建立本土材料供应链策略联盟。三、快速回应及高学习曲线。四、优异的品质控管及自主设计制程技术，已抢占与国际材料大厂竞争有利位置。

新应材主力产品为半导体先进制程光阻周边的表面改质剂（Rinse），为微影制程良率关键材料，前三季营收贡献达69.8％。未来将持续朝奈米级微影特化材料发展，包括即将到来的2奈米及未来的1.4奈米制程关键材料，可有效提升先进微影制程终端应用良率。

新应材目前在桃园、台南、高雄设有生产基地，作为研发中心的桃园厂生产显示器特化材料，台南厂及高雄厂均生产半导体特化材料、并于去年同步展开二期扩建，其中台南厂二期预期明年完成验证量产，高雄厂二期则预计明年春节后展开试产验证。

展望后市，新应材将持续投入半导体微影制程的特化材料开发技术，提供客户高品质的多元产品。目前除了以光阻周边特化材料为发展基础外，已成功开发深紫外光（DUV）光阻，可应用半导体微影制程及光学元件制程，目标成为首家半导体光阻本土供应商。

詹文雄表示，新应材前三季毛利率35.58％、营益率18.56％，双创同期新高，公司目前仍在大量投资期，随着规模经济效益显现，既有产品需求增加、新产品稼动率提升降低单位成本，看好将为公司带来下一波成长动能，认为未来2～3年毛利率仍有很大改善空间。