中芯没EUV是好事？外媒爆陆自产DUV大突破 恐是ASML恶梦开始

ASML执行长福克表示，陆厂少了EUV设备，很难追上台积电。（示意图/达志影像/shutterstock）

荷兰晶片设备制造巨擘艾司摩尔（ASML）执行长福克（Christophe Fouquet）表示，尽管中国大陆企业如中芯国际近年来在半导体领域有显著进展，但由于无法取得最先进的极紫外光微影设备（EUV），晶片制程技术仍落后台积电、三星等代工龙头约10至15年。

Tom's Hardware报导，福克接受荷兰《鹿特丹商报》（NRC）采访时指出，中芯国际和华为仅使用深紫外光曝光设备（DUV），在成本效益上无法与台积电的制程技术相提并论。

他认为，美国政府祭出的禁止EUV出口中国大陆禁令确实有效，让中国落后西方约15 年。尽管传出中芯国际曾订购一台EUV设备，但ASML为遵守国际出口管制规范「瓦圣那协议」以及美国制裁，从未将EUV设备出口至中国。

然而，ASML仍持续向中国出货先进DUV设备，例如「Twinscan NXT:2000i」机型，可生产5奈米、7 奈米制程晶片。目前中芯国际使用第一代和第二代7奈米制程为华为生产晶片，有助于中国高科技巨头应对美国制裁。

由于EUV设备无法进入中国，华为及其合作伙伴正积极开发极紫外线曝光技术，以建立自家晶片制造设备与生态系统，预计耗时约10至15年。相较之下，ASML及合作伙伴花了超过20年的时间建立EUV生态系统。

在1990年代的许多技术都是公开已知，因此中国开发EUV技术的难度较低，但外界最大担忧并非在15年后开发出EUV曝光设备，而是未来几年内复制ASML主流DUV设备，如Twinscan NXT:2000i。

目前，美国政府施压 ASML，要求停止为贩售至中国的先进 DUV系统提供维修服务，以配合对中国半导体业的制裁，但荷兰政府尚未同意。

中国大陆企业包括中芯国际、华虹半导体和长江存储等，都是ASML的重要客户，透过销售DUV曝光设备，每年获利数十亿美元。若大陆设备厂成功开发自有 DUV系统，不仅可能减少对 ASML的采购量，甚至可能出口至中国以外的市场，与ASML展开竞争，进一步加剧ASML在中国市场的压力。